国家知识产权局信息显示，上海新微技术研发中心有限公司申请一项名为“一种非制冷红外探测器制造方法”的专利，公开号CN121276880A，申请日期为2024年7月。

　　专利摘要显示，本发明提供一种非制冷红外探测器制造方法，包括：在电路片版图上预留光刻机对准标识；在处理后的电路片上沉积第一牺牲层并进行固化，第一牺牲层上设置有第一支撑层，通过光刻机进行光刻，完成桥腿层的制备；在形成桥腿层的晶圆表面沉积第二牺牲层并进行固化，第二牺牲层上依次设置有热敏电阻结构、金属布线层以及保护层，通过光刻机进行光刻，完成热敏电阻层的制备。本申请提供一种非制冷红外探测器制造方法，更好的适用于超大规模、多拼版非制冷红外探测器的制造，并提供一种多拼版产品用到两种或多种不同类型光刻机且涉及晶圆旋转对准光刻时对准标识的放置方法，更好地达到超大规模多拼版非制冷红外探测器的设计要求。

　　天眼查资料显示，上海新微技术研发中心有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本144416万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新微技术研发中心有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目484次，财产线条，此外企业还拥有行政许可46个。

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