国家知识产权局信息显示，上海新微技术研发中心有限公司申请一项名为“一种改善非制冷红外探测器均匀性的方法及非制冷红外探测器”的专利，公开号CN121275157A，申请日期为2024年7月。

　　专利摘要显示，本发明提供一种改善非制冷红外探测器均匀性的方法，包括如下步骤：提供一个待制作下电极的晶圆，在所述晶圆上依次形成钛层和第一氮化硅层，并对所述钛层以及第一氮化硅层图形化；对图形化后的所述晶圆进行清洗刻蚀处理，使钛层边界收缩至第一氮化硅层内；在所述第一氮化硅层上形成第二氮化硅层，并刻蚀所述第一氮化硅层以及第二氮化硅层以形成接触孔，在所述第二氮化硅层表面以及所述接触孔内沉积氧化钒层并对氧化钒层图形化。本方法通过将下电极金属钛层的边界收缩至氮化硅层的边界内形成微悬空的氮化硅结构，能够有效防止氧化钒层与钛层的短接。因而可以在不引起红外探测器噪声异常的同时有效解决“小白点”问题。

　　天眼查资料显示，上海新微技术研发中心有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本144416万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新微技术研发中心有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目484次，财产线条，此外企业还拥有行政许可46个。

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